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          光刻機概念股 +訂閱 龍頭股:藍英裝備

          光刻機概念股

          光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻,所以叫 Mask Alignment System。

          光刻機分為無掩模光刻機和有掩模光刻機。無掩模光刻機可分為電子束直寫光刻機、離子束直寫光刻機、激光直寫光刻機。電子束直寫光刻機可以用于高分辨率掩模版以及集成電路原型驗證芯片等的制造,激光直寫光刻機一般是用于小批量特定芯片的制造。有掩模光刻機分為接觸/接近式光刻機和投影式光刻機。接觸式光刻和接近式光刻機出現的時期較早,投影光刻機技術更加先進,圖形比例不需要為1:1,減低了掩膜板制作成本,目前在先進制程中廣泛使用。隨著曝光光源的改進,光刻機工藝技術節點不斷縮小。

          光刻機概念股

          成分股張江高科、上海電氣、上海新陽、蘇大維格、勝利精密、南大光電、藍英裝備、飛凱材料、容大感光、晶瑞股份、怡達股份、華特氣體。
          我國光刻機發展現狀及前景如何

          我國光刻機發展現狀及前景如何

          光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等。 光刻機分為無掩模光刻機和有掩模光刻機。無掩模光刻機可分為電子束直寫光刻...

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